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廢氣凈化設(shè)備

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uv光解廢氣凈化設(shè)備的工作原理

  
uv光解廢氣凈化設(shè)備的工作原理
 
uv光解廢氣凈化設(shè)備的工作原理:
 
1.惡臭氣體通過排氣設(shè)備輸入凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備利用高能紫外光束和臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解和氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳,然后通過排氣管排放到室外。
 
2.通過高能紫外光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸(DNA),再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),徹底達(dá)到除臭殺菌的目的。
 
uv光解廢氣凈化設(shè)備的特點:
 
uv光解技術(shù)的特點是:成本低,運行穩(wěn)定可靠,無需特別護(hù)理,但廢氣處理速度慢,其效率低于低溫等離子體技術(shù)。
 
低溫等離子體是繼固體、液體和氣體之后的第四種物質(zhì)狀態(tài)。當(dāng)施加的電壓達(dá)到氣體的放電電壓時,氣體迅速分解,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基的混合物。雖然放電過程中電子溫度很高,但重粒子的溫度很低,整個系統(tǒng)處于低溫狀態(tài),所以被稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子在極短的時間內(nèi)分解污染物,然后進(jìn)行各種后續(xù)反應(yīng),達(dá)到降解污染物的目的。(注:與高溫等離子體相比,低溫等離子體屬于常溫運行。等離子體反應(yīng)區(qū)富含極高能量物質(zhì),如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等。廢氣中的污染物能與這些物質(zhì)發(fā)生高能反應(yīng),使污染物在極短的時間內(nèi)分解,并發(fā)生各種后續(xù)反應(yīng),達(dá)到解釋污染物的目的。與傳統(tǒng)電暈放電產(chǎn)生的低溫等離子體技術(shù)相比,等離子體技術(shù)的放電密度是電暈放電的1500倍,這也是傳統(tǒng)低溫等離子體技術(shù)未能處理99%工業(yè)廢氣的原因。
 
與目前國內(nèi)常用的惡臭氣體處理方法相比,等離子體工業(yè)廢氣處理技術(shù)具有以下特點:將低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用于惡臭氣體處理,處理效果好,成本高,但運行成本極低,無二次污染,運行穩(wěn)定,運行管理簡單,隨時可用等。并且可以瞬間處理廢氣,效率高,對環(huán)境安全系數(shù)要求高。
 
uv光解廢氣凈化設(shè)備相對于其他廢氣處理設(shè)備的優(yōu)勢;
 
1.uv光解是紫外線照射技術(shù),通過紫外燈管產(chǎn)生的185nm光譜和253.7nm光譜照射廢氣成分,分解廢氣中的氧分子產(chǎn)生臭氧,利用臭氧氧化分解廢氣。這項技術(shù)主要用于殺菌消毒。
 
2.主要設(shè)備配置不同:uv光解設(shè)備內(nèi)部組成主要由紫外燈管和活性炭纖維過濾層組成。
 
3.不同的移除能力:
 
uv光解產(chǎn)生的臭氧氧化能力為1.24eV,只能氧化一小部分廢氣成分。
 
4.不同的使用壽命:
 
uv光解紫外燈管及電源(進(jìn)口產(chǎn)品)8000小時?;钚蕴坷w維層根據(jù)不同的廢氣濃度頻繁更換。
 
5.設(shè)備應(yīng)用安全防控措施不同:
 
uv光解主機(jī)設(shè)備基本沒有安全防控措施。
 
6.設(shè)備長期運行的保障措施不同:
 
光量子管在uv光解主機(jī)中長期運行后,管壁附著的結(jié)焦物沒有在線清洗措施,影響了設(shè)備的運行和去除效率。
 
7.一次性投資和能源消耗不同:
 
1)uv光解的一次性投資略低。
 
2)uv光解能耗低。
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